2025

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学術雑誌論文

K. Nakamura, T. Mita, K. Shimamura, M. Nagao, M. Kawahara, and T. Kawae
Deposition of c-axis oriented YBa2Cu3O7-x thin film on Si substrates using self-oriented LaNiO3 film
Accepted to Japanese Journal of Applied Physics


S. Taguchi, S. Hashimoto, C. Hong, M. Nagao, and
T. Kawae
High-speed micropatterning of oxide thin films by water lift-off with high-pressure water jet
Japanese Journal of Applied Physics
, 64, 10SP29 (2025)

I. D. Antro, T. Kawae

Environmentally Friendly Microfabrication of Oxide Thin Films with Minimal Residue Using Water Lift Off Process with Sacrificial a-CaO Layer
Environmental Quality Management, 35, e70165 (2025) (6 pages)

学会・研究会報告

田口聖也、橋本駿哉、洪 超煌、川江 健
水リフトオフプロセスの高スループット化と加工精度向上に向けた検討(2)
日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウム(群馬大学・荒牧キャンパス)

斎藤泰地、中川龍一、吉本 翼、松本 翼、徳田規夫、川江 健
SiO2/Al2O3多層膜を用いたダイヤモンドMOS構造の形成(3)
第86回応用物理学会秋季学術講演会(名城大・天白キャンパス)

三田 佑、中村匡佑、島村一利、河原正美、長尾雅則、川江 健
自己配向LaNiO3を利用したSi基板上へのc軸配向YBa2Cu3O7-x薄膜堆積牲層(3)

第86回応用物理学会秋季学術講演会(名城大・天白キャンパス)

洪 超煌、田口聖也、中村匡佑、三田 佑、長尾雅則、川江 健
水リフトオフ法を用いたYBa2Cu3O7-x薄膜の選択成長に関する検討
第86回応用物理学会秋季学術講演会(名城大・天白キャンパス)


S. Taguchi, S. Hashimoto, C. Hong, T. Kawae
High-speed micropatterning of oxide thin films by water lift-off with high-pressure water jet
The 10th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO2025)(AOSSA, Fukui)

C. Hong, S. Taguchi, K. Nakamura, T. Mita, M. Nagao, T. Kawae
Micropatterning of YBa2Cu3O7-x thin film using high-pressure water jet treatment
The 10th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO2025)(AOSSA, Fukui)

K. Nakamura, T. Mita, K. Shimamura, M. Nagao, M. Kawahara, T. Kawae
Deposition of c-axis oriented YBa2Cu3O7-x thin film on Si substrates using self-oriented LaNiO3 film
The 10th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO2025)(AOSSA, Fukui)

R. Nakagawa, T. Saito, K. Sato, T. Matsumoto, N. Tokuda, T. Kawae
Diamond MOS structure with SiO2/Al2O3 bilayer gate insulator
The 10th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO2025)(AOSSA, Fukui)

川江 健、三田 佑、中村匡佑、島村一利、河原正美、長尾雅則
自己配向LaNiO3を利用したSi基板上のYBa2Cu3O7-x薄膜成長
Superconductivity Interdisciplinary Seminar 2025 (SIS2025)(伊東市・山岸園)


中川龍一、斎藤泰地、松本 翼、徳田規夫、川江 健
SiO2/Al2O3多層膜を用いたダイヤモンドMOS構造の形成(2)
第72回応用物理学会春季学術講演会(東京理科大・野田キャンパス)

三田 佑、中村匡佑、島村一利、河原正美、長尾雅則、川江 健
自己配向LaNiO3を利用したSi基板上へのc軸配向YBa2Cu3O7-x薄膜堆積牲層(2)

第72回応用物理学会春季学術講演会(東京理科大・野田キャンパス)